溢鑫科创成立于2008年，是由数位印刷电子领域的专业人员创办，自创建以来先后与国内外一流研究单位在微纳米领域及柔性印刷电子领域开展紧密合作，十年间伴随着中国科研日新月异溢鑫科创已发展成为国内知名的柔性印刷电子Flexible Printed Electronics领域专业供应商以及领军企业。

现有印刷电子工艺涉及：PeJet微电子打印机(压电喷墨打印)，压电式纳米材料喷墨沉积仪，Aerosol Jet气溶胶打印喷印，Optomec气溶胶打印喷印，EHD电流体喷印，3D不规则微电子打印，XTPL UPD超高精度纳米材料沉积打印系统，瑞士NSM Gravure/Flexo凹版柔版印刷机及卷对卷凹印柔印丝印系统，Slot Die狭缝涂布，R2R/R2P卷对卷涂布/压印工艺，气流喷射打印, 脉冲光烧结，NIR烧结，瑞士Coruna高精密丝网印刷机，纳米压印以及FlexTest柔性材料与器件测试系统;

光刻微纳米加工工艺涉及：PPL聚合物笔纳米制造系统/蘸笔纳米加工系统(NanoInk DPN蘸水笔纳米制造系统),  BPL光束笔微影纳米光刻系统,  无掩膜激光直写光刻,  FE-SPL场发射扫描探针光刻系统, 飞秒激光微纳米加工，2PP双光子3D聚合微加工系统，超大面积定制化ICP/RIE

我们本着以“勇于创新不懈追求”为经营信念，始终坚持提供以用户为导向的完善的科研解决方案，不断优化的售前、售后服务也保证了客户满意度和方案的可行性和先进性。

目前公司有三大部门：

显微镜部门：英国Cressington电镜专用镀膜设备, 美国XEI高真空等离子清洗设备

微纳米光刻部门：TERA Print PPL聚合物笔纳米制造系统，BPL光束笔微影纳米光刻系统，Microtech无掩膜激光直写光刻系统，WOP(Workshop of Photonics) FemtoLab,FemtoFab飞秒激光微纳米加工系统, 2PP双光子3D聚合系统，Nanoanalytik FE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统，GlowResearch定制化RIE/ICP;

印刷电子部门：压电式纳米材料喷墨沉积仪，美国Sonoplot微纳米材料沉积喷墨打印系统, 日本SIJ超高分辨喷墨打印系统，美国Aerosol Jet/Optomec高精细气溶胶打印系统（气溶胶喷墨打印系统），XTPL UPD超高精度纳米材料沉积打印系统，德国NeotechAMT 高粘度多功能3D微电子打印机，德国Microdrop生物医学微纳米材料喷墨打印系统，德国工业级高精度喷墨打印机，PeJet多材料多通道微电子打印机，气流喷射打印系统, 丹麦InfinityPV Slot Die狭缝涂布仪及R2R卷对卷狭缝涂布系统，美国JetXpert飞行墨滴表征分析仪，R2R纳米压印系统，瑞士NSM 多功能Gravure/Flexo凹版柔版印刷机及卷对卷凹印柔印丝印系统，瑞士Coruna高精密丝网印刷机，美国NovaCentrix脉冲光烧结系统，德国adphos快速低温近红外烧结系统，FlexTest柔性材料与器件测试系统; PolyPico高精量生物材料打印系统，以及配套的油墨材料包括银浆，碳浆，铜浆，Pedot PSS等。