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AutoGlow多功能等离子表面处理仪
                             

美国GlowResearch公司是美国著名的等离子系统解决方案供应商,凭借着多年研发和突破性创新拥有等离子体行业内极高的口碑.其旗下Glow系列, AutoGlow系列广泛应用于全球各大小型生产及研发实验室, 如美国宇航局, 波音,霍尼韦尔,3M, 德国拜耳及全美各大名校及科研院所如哈佛大学, 麻省理工, 莱斯大学, 橡树岭国家实验室, 加州理工学院, 耶鲁大学、乔治华盛顿大学、斯坦福大学等等.

Glow通用型及AutoGlow高性能型多功能等离子体表面处理仪是特别设计用于等离子体处理包括灰化, 清洗, 表面活化, 改性, 刻蚀以及RIE(各向异性及各向同性), 具有功能性多、易操作性强、无需调试、可靠性高、低成本的优点, 广泛应用在半导体制造, 微电子微纳加工, 生命医学器件和样品前处理等.

 

 

应用领域如下:

目前设备广泛应用于:等离子清洗、刻蚀、改性、灰化、涂镀和反应离子刻蚀,在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域有广泛应用。

                            

 

RIE系统刻蚀效果取决于气体的流量,压力和功率设置等方面。
我们设计和制造的反应性离子蚀刻系统,可以满足客户的任何需要,且可以根据客户的要求定制适合的等离子系统。我们的等离子处理系统,以提供快速,高品质的蚀刻,低损伤,提供无与伦比的均匀性而著称。
我们的等离子蚀刻机是理想的干蚀刻,目前正在采用的蚀刻:
半导体/集成电路
氮化镓(甘)
氮化铝镓/氮化镓(AlGaN/GaN)
砷化镓/砷化铝镓(一般反避税条款/ algaar)
砷化镓(GaAs)
磷化铟、铟铝砷/铟镓砷化物(InP InGaAs/InAlAs)
硅(硅)
硅锗(SiGe)
氮化硅陶瓷(Si3N4)
硅的溴化氢(sihbr)
硒化锌(ZnSe)
金属
铝(铝)
铬(铬)
铂(铂)
钼(钼)
铌(铌)
钽(钽)
钛(Ti)
钨(钨)
电介质
铟锡氧化物(ITO)
锆钛酸铅(PZT)
碳化硅(碳化硅)
塑料/聚合物
聚四氟乙烯(PTFE)
聚甲醛(POM)
聚苯并咪唑(PBI)
聚醚醚酮(PEEK)
聚酰亚胺(聚酰亚胺)
聚酰胺(尼龙)
全氟烷氧基烷(PFA)
聚全氟乙丙烯(FEP)
聚烯烃
聚酯

失效分析 

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