ATLANT 3D DALP 这款技术突破传统微纳米加工行业限制, 解决现有ALD技术无法区域选择和无法图形化的痛点, 轻松创造新材料和新工艺且达到埃米原子级极高精度;

ATLANT 3D领先的无掩膜ALD直写沉积技术DALP , 实现可控图形化及亚埃原子级超高加工精度, 在整个全球微电子研发及生产体系中脱颖而出, 满足从先进材料研发、微纳器件原型设计、可扩展制造到微纳光电子学、光子学、微流体、 MEMS/传感器、印刷电子等领域的先进应用; 且这种独特技术具有超高灵活性以及材料零浪费, 并与半导体行业标准相兼容;