产品中心
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研发型印刷电子
工业型印刷电子
微纳米加工及薄膜沉积
显微镜及镀膜仪
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DGLD激光玻璃直写沉积
可塑性超强的增材技术
兼容微尺度到宏观尺度
极高粗糙度及高性价比

微尺度激光熔融玻璃3D打印机
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10nm级超高分辨率
3D结构自由度极高
百余种干法纯材料
晶圆级高通量无需黄光刻蚀

法拉第3D干法原子级制造平台
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台式无掩模直写
业内性价比极高
多个读写头配置
简单好用易上手

台式无掩膜激光直写光刻机
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全球知名微纳加工中心选择
直写光刻领域历史悠久品牌
独特的平行四读写头设计
灵活可定制化大面积选择

Microtech无掩模直写光刻系统
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一致化学计量比
低温沉积超精准薄厚
超高沉积速率
超广材料范围

Noivion高能电离射流薄膜沉积系统
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低地球轨道LED空间
原子氧辐照效应研究
航天材料测试
空间科学研究

Noivion AtOx脉冲放电原子氧发生器
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新一代超高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster ALD超高速原子层沉积系统
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新一代高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster ALD/PVD原位复合原子层沉积系统
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新一代超高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster工业级超高速ALD原子层沉积系统
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纳米到微米级高分辨跨尺度
无支撑自由成形/零重力效应
可打印纯金属: Cu, Au, Ni, Ag, Pt
无需特殊环境无需黄光无需热处理

Exaddon电化学沉积微纳米3D打印机
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玻璃3D打印
飞秒微纳加工
SLE选择激光刻蚀
德国Lighfab技术

德国Lightfab 3D飞秒激光微纳加工系统(玻璃3D打印机)
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等离子表面处理
桌面式设计性价比高
性能稳定做工优良
RIE反应刻蚀

iPlasma多功能等离子表面处理仪
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无掩膜ALD原子层沉积
多达450种可用材料
可达0.1nm膜厚分辨率
ALD直写沉积打印

无掩膜ALD原子层直写沉积系统
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可达亚微米精度
平行多喷头EHD技术
领先的MEMS工艺喷头
满足产业化量产需求

Scrona超高分辨多喷头EHD电流体打印机
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突破行业技术瓶颈
替代传统点胶或丝印工艺
高均匀/高可靠/高效率
粘合剂/密封剂/涂层/封装/导电导热绝缘

Quantica数字化高粘度喷墨打印
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定制化产业级多喷头
适用于高粘度浆料
极佳线宽精度及高宽比
实验级到产业化系统

HighLine产业级高粘度平行多喷头印刷系统
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