Features优势说明：

• 源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺，60多年专业技术及全球8000名科研工作者的信赖；
• 专利的低压直流冷态溅射镀膜，避免样品微纳结构的热损伤和热变形；
• 专利的回路控制保证了溅射电流不受压力影响而始终固定不变，保证均匀一致的膜厚和最佳的镀膜效果；
• 可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果；
• 操作容易快捷，自动或手动模式，靶材快速更换；

 

 

Specification技术规格：

样品仓尺寸	120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构 （可选150mm）
样品台	可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节
溅镀优点	基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护
溅射控制	最大电流40mA，程序化数字控制
溅射头	低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩
模拟计量	Atm - 0.001mb
靶材	金，铂，金/钯，铂/钯, 银等
溅射速率	优于40nm/min (金靶）
膜厚监控仪	MTM-10高精度膜厚监控仪(选配)
工作电压	220V, 50/60HZ
适用配套	FEI, Phenom, Zeiss, JEOL, Hitachi, Tescan等扫描电镜系统