产品中心
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研发型印刷电子
工业型印刷电子
微纳米加工及薄膜沉积
显微镜及镀膜仪
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台式无掩模直写
业内性价比极高
多个读写头配置
简单好用易上手

台式无掩膜激光直写光刻机
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全球知名微纳加工中心选择
直写光刻领域历史悠久品牌
独特的平行四读写头设计
灵活可定制化大面积选择

Microtech无掩模直写光刻系统
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新一代高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster ALD高性能原子层沉积系统 (高速ALD)
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新一代高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统
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新一代超高速ALD技术
原位复合ALD+PVD
原位制备多层纳米薄膜
可升级PEALD等离子增强

Swiss Cluster工业级超高速ALD原子层沉积系统
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磁控溅射镀膜
有机物低温金属沉积
电子束蒸镀
热蒸发

英国Korvus多模块复合薄膜沉积系统
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大于5000mm2/min效率
可达0.5um刻写线宽精度
可达0.5um校准对位精度
最大可加工到12英寸尺寸

高速高分辨无掩模直写光刻机
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皮秒短脉冲PLD薄膜沉积
源头遏制微粒及飞溅现象
PulseLion全固态锂电技术
LISA锂硫电池项目技术

Pulsedeon脉冲激光薄膜沉积系统
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Sputter多靶磁控溅射
Evaporator多源热蒸发
PLD激光脉冲沉积
多种镀膜工艺一体化

Vac Coat多靶磁控溅射薄膜沉积系统
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台式对准光刻机
业内性价比很高
搭配多个光学物镜
性能稳定易上手

台式Maskaligner对准光刻机
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基于PDMS制备3D微流控
实验室科研及产业大规模
相对传统2PP性价比很高
广泛应用微电子及生物

Microfluidics 3D微流控打印机
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等离子清洗,活化,改性
桌面式设计性价比高
性能稳定做工优良

iPlasma多功能等离子表面处理仪
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基于玻璃3D复杂微器件
加工精度小于1um
表面精细度优于10nm
深宽比优于500比1

FemtoPrint飞秒激光3D打印机
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FemtoLAB飞秒激光微纳米加工系统
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Glowresearch Autoglow多功能等离子体表面处理系统
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