溢鑫科创
产品列表
研发型印刷电子
工业型印刷电子
微纳米加工
显微镜产品
上海总部:上海市沪青平公路2008号(紧靠明珠路)竞衡大业广场803室
Tel:02139883361 Fax: 02139883361
Mobile: 13636694894
Email:info@micro-nanotech.com
北京分部:北京市海淀区中关村大街11号E世界财富中心961B
Tel:01056145600 Fax:01056145601
Mobile:18801462199
Email:frank.wang@micro-nanotech.com
香港分部:FLAT/RM 1611B 16/F HO KING COMMERCIAL CENTRE 2-16 FA YUEN STREET MONGKOK
新闻资讯
产品中心
您当前位置: 首页 > 微纳米加工 > Microtech激光直写光刻系统
Microtech激光直写光刻系统

                

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑软件控制,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案,无需掩膜工序。

绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率,而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蚀工艺上:只用费用昂贵、速度缓慢的电子束刻蚀加工细小的结构,用成本低廉的Microtech加工大面积部分。Microtech先进的对准机制可以使两部工序完美结合。因此Microtech也适用于已经拥有电子束刻蚀的实验环境。

                

          

首页 | 关于我们 | 产品中心 | 服务支持 | 新闻资讯 | 诚聘英才 | 联系我们
Copyright © 2016 溢鑫科创集团 版权所有 严谨拷贝 ICP备案号:沪ICP备15022072号-1
上海总部地址:上海市沪青平公路2008号(紧靠明珠路)竞衡大业广场803室 电话:021-39883361 网站建设支持与维护牵紫赫科技