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产业级超高分辨千束激光光刻系统


微纳米光刻领域无掩模直写光刻主要有电子束和激光/LED直写光刻工艺,而电子束光刻优势在于分辨率高,局限在于一次刻写范围非常有限,大面积高精度拼接困难,刻写速度非常慢;

而激光直写光刻可获得很不错的加工深宽比,大面积刻写及刻写速度大幅度提升,不过其刻写精度又局限在1微米左右。

我们这款超高分辨激光直写光刻系统,达到了业内小到100nm刻写精度以及超高的深宽比,除此外,千束刻写系统可保证大面积超高刻写速度同时无需拼接; 因此,超高分辨,超快刻写速度,大面积无需拼接均为业内独有的激光直写技术。


                              

                

                

             

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