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BPL光束笔微影纳米制造系统


TERA Fab E系列是首台商业化光束笔光刻(BPL)纳米加工系统, 此技术也叫DPN(Dip Pen Nanolithography)蘸水笔纳米光刻技术或浸蘸笔纳米加工刻蚀技术(美国NanoInk公司),是基于无悬臂扫描探针打印光刻仪器使用多达两万支可独立编程笔阵列, 每支笔尖都有相同尺寸小孔光阑来进行无掩膜光刻; 自定义软件允许研究人员在0.5x0.4平方厘米区域内快速精准拼接不同图形, 且特征尺寸分辨率优于200纳米; 这个工具可以快速地制作电子和光学器件, 制造光刻掩模, 以及光化学研究, 桌面式操作上手容易, 无需无尘室; 更多应用及产品细节信息请联系TERA中国区唯一授权商:溢鑫科创。

典型的应用包括:

*研究单个细胞
*使用DNA、蛋白质、肽或碳水化合物阵列
*微流控或微纳电子功能器件的制备
*图案化水凝胶
*高定域光化学
*合成和发现用于催化、光子学或治疗学应用的新纳米材料
*其他高密集高分辨的微纳米器件制造

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