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DMD无掩模直写光刻系统

 

法国Microlight 3D出品的SmartPrint UV基于创新DMD无掩模直写光刻工艺, 在保证稳定可靠性下极大提到作业产率, 是传统直写光刻效率的100倍以上, 大大减少了半导体器件试作的周期时间!此系统为桌面型紧凑型设计, 在保证高性能同时节省空间且性价比极高, 精选的物镜工作范围可达3cm, 使系统可兼容除硅片外更多非标衬底如不平的, 柔性的, 和厚的, 完全符合微纳米加工及柔性器件制备的预期!

使用称为DMD的显示元件,通过与平台完全同步的ON/OFF控制,在晶片上直接绘制图案。因为不需要试制照片掩模所花的时间和费用,所以可以提高半导体及其他电子器件的试制效率.

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