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超高速超高分辨无掩模直写光刻机
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日本Nano System Solutions DL-1000产业级超高速超高分辨无掩膜直写光刻系统传统无掩模直写光刻工艺在线宽和加工效率上面无法兼容,最优特征尺寸下仅能达到100mm2/min以下甚至更低的加工效率,而DL-1000基于创新DMD直写光刻工艺, 在保证高分辨及可靠性下极大提到作业产率, 大大减少了半导体器件试作的周期时间, 加工200mm*200mm区域只需不到5分钟左右,是传统无掩模直写光刻加工效率的数百倍!此系统最大可支持12英寸晶圆, 完全符合大面积高产率的预期! 使用称为超高性能DMD显示元件, 通过与舞台完全同步的ON/OFF控制,在晶片上直接绘制图案。因为不需要试制照片掩模所花的时间和费用,所以可以提高半导体器件的试制效率!


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