日本Nano System Solutions DL-1000产业级超高速超高分辨无掩膜直写光刻系统： 传统无掩模直写光刻工艺在线宽和加工效率上面无法兼容，最优特征尺寸下仅能达到100mm2/min以下甚至更低的加工效率，而DL-1000基于创新DMD直写光刻工艺, 在保证高分辨及可靠性下极大提到作业产率, 大大减少了半导体器件试作的周期时间, 加工200mm*200mm区域只需不到5分钟左右，是传统无掩模直写光刻加工效率的数百倍！此系统最大可支持12英寸晶圆, 完全符合大面积高产率的预期！ 使用称为超高性能DMD显示元件, 通过与舞台完全同步的ON/OFF控制，在晶片上直接绘制图案。因为不需要试制照片掩模所花的时间和费用，所以可以提高半导体器件的试制效率！