产品中心
Product Center
研发型印刷电子
工业型印刷电子
微纳米加工及薄膜沉积
显微镜及镀膜仪
sample41

大于5000mm2/min效率
可达0.5um刻写线宽精度
可达0.5um校准对位精度
最大可加工到12英寸尺寸

高速高分辨无掩模直写光刻机
sample41

优于10um高分辨丝印工艺
光学精确对位层层3D印刷
从研究型到可定制化产业级
适合柔性基材多层印刷器件

瑞士Coruna高精密丝网印刷机
sample41

皮秒短脉冲PLD薄膜沉积
源头遏制微粒及飞溅现象
PulseLion全固态锂电技术
LISA锂硫电池项目技术

Pulsedeon脉冲激光薄膜沉积系统
sample41

Sputter多靶磁控溅射
Evaporator多源热蒸发
PLD激光脉冲沉积
多种镀膜工艺一体化

Vac Coat多靶磁控溅射薄膜沉积系统
sample41

台式对准光刻机
业内性价比很高
搭配多个光学物镜
性能稳定易上手

台式Maskaligner对准光刻机
sample41

基于PDMS制备3D微流控
实验室科研及产业大规模
相对传统2PP性价比很高
广泛应用微电子及生物

Microfluidics 3D微流控打印机
sample41

等离子清洗,活化,改性
桌面式设计性价比高
性能稳定做工优良

iPlasma多功能等离子表面处理仪
sample41

基于玻璃3D复杂微器件
加工精度小于1um
表面精细度优于10nm
深宽比优于500比1

FemtoPrint飞秒激光3D打印机
sample41





FemtoLAB飞秒激光微纳米加工系统
sample41

不规则3D微电子打印技术
复杂三维结构随形直写
多种功能喷头可供选择
五轴平台及强大的软件

量产型多喷头3D微电子打印机
sample41

卷对卷连续镀膜作业
柔性衬底薄膜沉积
PLD激光脉冲薄膜沉积
适用于多种靶材及应用

R2R-PVD卷对卷高真空薄膜沉积系统
sample41





Unijet Omnijet工业级超高精度喷墨打印机
sample41

业内数秒级光焊锡技术
适用于热敏衬底超快烧结
大面积高效率光烧结技术
高品质制造工艺高性能配置

快速光焊锡Soldering系统
sample41





荷兰Morphotonics R2P产业级纳米压印系统
sample41





Glowresearch Autoglow多功能等离子体表面处理系统
sample41





荷兰Morphotonics R2P量产级纳米压印系统
首页 上一页 下一页 尾页 页面: 2/577条记录
         
联系我们   快速链接   在线留言
上海办事处:上海市青浦区佳杰路99弄漕河泾高科园区1号楼704室
电话:021-39883361 手机: 13636694894
邮箱:info@micro-nanotech.com
北京办事处:北京市海淀区中关村大街11号E世界财富中心961B
手机: 18501928341
邮箱:frank.wang@micro-nanotech.com
 
● 产品中心
● 应用领域
● 新闻中心
● 关于我们
 
 
     
     
友情链接:
PulseLion
Pulsedeon
Arrayjet
Swiss Cluster
Nanoprintek
Voltera
美国XEI
英国Cressington
瑞士NSM
德国Microdrop
美国IDS
美国XENON
德国Neotech
日本SIJ
日本Priways
波兰XTPL
丹麦InfinityPV
美国Pulseforge
德国Notion
美国Novacentrix
意大利Microtech
德国adphos
美国Sonoplot
Copyright © 2011~2022 上海硕赛国际贸易有限公司 ICP备案:沪ICP备15022072号-1